特气网和远气体新获得一项发明专利授权，专利名为“一种制备半导体用超纯氨的装置及工艺”，专利申请号为CN202210167909.0，授权日为2025年4月4日。

专利摘要：本发明公开了一种制备半导体用超纯氨的装置及工艺，所述装置包括依次连通的汽化单元、用于脱硫脱水的预处理单元、脱轻单元、脱重单元和用以除水、氧和金属的后纯化单元，及用于对汽化单元和精馏系统加热的供热系统；所述装置可便捷高效地除去水、氧及金属等杂质获得超纯氨；此外供热系统的介质既提供热源，又提供冷源，实现连续化节能生产；高低沸点组分的脱除可作为工业氨回收利用，无废气排放。

今年以来和远气体新获得专利授权5个，较去年同期增加了400%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了2364.41万元，同比增25.4%。

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